一种透明的双层结构忆阻器及其制备方法

专利信息

专利权人:山东大学

第一发明人:钱凯

专利号:ZL202110512729.7

授权日:2022-09-16

专利类型:发明

国别:

所属领域:电子信息、高端装备

开放许可开始日期:2024-01-16

开放许可截止日期:2026-04-30

单次许可期限:三年

许可费支付方式:一次性支付100000

专利简介

专利权人 山东大学 第一发明人 钱凯
专利号 ZL202110512729.7 授权日 2022-09-16
专利类型 发明 国别
所属领域 电子信息、高端装备 开放许可开始日期 2024-01-16
开放许可截止日期 2026-04-30 单次许可期限 三年
许可费支付方式 一次性支付100000

本发明属于导体器件微纳加工技术领域,尤其涉及一种透明的双层结构忆阻器及其制备方法。其中,双层结构忆阻器由下至上依次设置的衬底、底电极和顶电极构成,所述顶电极和底电极用于连接分别正电压和负电压,以实现忆阻器的易失性和自限流性。